1 頁 (共 1 頁)

O00106-化學鎳液(單一劑)

發表於 : 2021-03-16, 16:02
jen hang chen
1.化學鎳液組成:典型之商品化學鎳液由三劑組成[(多數命名如A、B、C劑,A劑與B劑作為建浴,A劑通常含金屬鹽(如硫酸鎳),並可含有其他成分,占鍍浴5~6vol%,B劑通常含有還原劑(如次亞磷酸鈉),其他功能成分如安定劑、光澤劑、錯合劑、促進劑、pH緩衝劑、複合沉積之顆粒物質穩定劑等,占鍍浴15~20vol%,A劑與C劑配合作為補充,C劑多類似於B劑,然其特定組合及濃度亦有不同於B劑,此濃度差異乃在於每種材料由於沉積反應從初始組成濃度消耗或損耗速率的差異,通常將C劑配製成以便於相對A劑的比例使用,如一份A劑加入兩份C劑,或者如一份A劑加入一份C劑],將金屬鹽及還原劑保持在單獨溶液中,此乃避免這些成分在其被引入鍍浴之前發生任何可能的反應;保持所有成分在溶液中穩定並且免於沉澱。
2. Jijeesh Thottathil等人開發出單一劑之化學鎳製程 [參考US 10731258(2020) ]:One-Plate systems;用於建浴及補充,符合RoHS、ELV及WEEE規定,鍍液於5~45℃為穩定,鍍浴在一日使用結束時冷卻並在次日重新加熱至操作溫度再繼續沉積作業。