O00023-不含金屬安定劑之高磷化學鎳製程
發表於 : 2020-11-07, 15:32
台灣區表面處理工業同業公會及金屬工業研究發展中心等單位在台大醫院國際會議中心舉辦之1106/2020台灣先進表面處理技術及應用研討會,Atotech公司經理Shakeel Akhtar於會議中演講:提出第四代不含金屬安定劑(不含鉛、鎘等金屬離子)之高磷化學鎳製程,鍍層具壓縮應力,負載量0.25~2.5dm2/L,沉積速率8~12μm/小時。
參考如WO2017/118655(Atotech)化學鎳液之安定劑:含氨基丙烷腈衍生物1~10000μmol/l,不含鉛、鎘、銻、鉍、砷及汞重金屬安定劑,不含碘取代之有機化合物,鍍液穩定,鍍層具高壓縮應力。
(鋼板,51x89mm,厚0.81mm):硫酸鎳0.1mole/l,次亞磷酸鈉0.3mole/l,乳酸0.1mole/l,蘋果酸0.1mole/l,琥珀酸0.055mole/l,pH 4.8,89℃,附載量0.9dm2/L, 氨基丙烷腈衍生物100μmole/l,沉積速率11μm/小時,鍍層含磷11.1wt%,應力-21N/mm2
僅供參考
J. H. CHEN 1107/2020
參考如WO2017/118655(Atotech)化學鎳液之安定劑:含氨基丙烷腈衍生物1~10000μmol/l,不含鉛、鎘、銻、鉍、砷及汞重金屬安定劑,不含碘取代之有機化合物,鍍液穩定,鍍層具高壓縮應力。
(鋼板,51x89mm,厚0.81mm):硫酸鎳0.1mole/l,次亞磷酸鈉0.3mole/l,乳酸0.1mole/l,蘋果酸0.1mole/l,琥珀酸0.055mole/l,pH 4.8,89℃,附載量0.9dm2/L, 氨基丙烷腈衍生物100μmole/l,沉積速率11μm/小時,鍍層含磷11.1wt%,應力-21N/mm2
僅供參考
J. H. CHEN 1107/2020