O00023-不含金屬安定劑之高磷化學鎳製程

jen hang chen
文章: 42
註冊時間: 2019-05-31, 17:08

O00023-不含金屬安定劑之高磷化學鎳製程

文章 jen hang chen » 2020-11-07, 15:32

台灣區表面處理工業同業公會及金屬工業研究發展中心等單位在台大醫院國際會議中心舉辦之1106/2020台灣先進表面處理技術及應用研討會,Atotech公司經理Shakeel Akhtar於會議中演講:提出第四代不含金屬安定劑(不含鉛、鎘等金屬離子)之高磷化學鎳製程,鍍層具壓縮應力,負載量0.25~2.5dm2/L,沉積速率8~12μm/小時。
參考如WO2017/118655(Atotech)化學鎳液之安定劑:含氨基丙烷腈衍生物1~10000μmol/l,不含鉛、鎘、銻、鉍、砷及汞重金屬安定劑,不含碘取代之有機化合物,鍍液穩定,鍍層具高壓縮應力。
(鋼板,51x89mm,厚0.81mm):硫酸鎳0.1mole/l,次亞磷酸鈉0.3mole/l,乳酸0.1mole/l,蘋果酸0.1mole/l,琥珀酸0.055mole/l,pH 4.8,89℃,附載量0.9dm2/L, 氨基丙烷腈衍生物100μmole/l,沉積速率11μm/小時,鍍層含磷11.1wt%,應力-21N/mm2
僅供參考
J. H. CHEN 1107/2020

ariolwu01
文章: 26
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Re: O00023-不含金屬安定劑之高磷化學鎳製程

文章 ariolwu01 » 2020-11-13, 15:15

如何分析或管控化學鎳液內安定劑的濃度?

jen hang chen
文章: 42
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Re: O00023-不含金屬安定劑之高磷化學鎳製程

文章 jen hang chen » 2020-11-16, 16:12

藉由AA或ICP能分析重金屬安定劑(諸如:鉛、鎘、鉍、鉬、銻等)之濃度。
奧野製藥工業株式會社於令和1年提出不含重金屬安定劑之化學鎳液:喋啶環化合物作為安定劑,藉由UV波長435~480nm,可定量分析濃度。
如參考USP 8648601(Atotech):經由伏安測量(voltammetric measurement)來控制化學沉積液內穩定添加劑濃度之方法,其步驟包括:修整工作電極;中間體對工作電極的相互作用;測量法拉第電流(Faradaic current)以及測定法拉第電流。
僅供參考
J. H. CHEN

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