O00013-減少鎳離子釋出之多層鎳製程

chen jen hang

O00013-減少鎳離子釋出之多層鎳製程

文章 chen jen hang » 2019-12-26, 15:45

耐蝕性之三層鎳乃在光澤鎳與半光澤鎳鍍層間鍍上一層含硫量較高(0.15%~0.20%)且極薄的高硫鎳層,電位較光澤鎳約負20 mV,腐蝕活性很高,鍍層有孔隙時,高硫鎳鍍層成為陽極先被腐蝕,因而降低光澤鎳層之腐蝕速度,保護了半光澤鎳層不受腐蝕。
高耐蝕性之四層鎳製程:底材/半光澤鎳/高硫鎳/光澤鎳/鎳封(或微孔鎳)/微孔鉻,微孔密度不能少於10000孔/cm2。半光澤鎳與光澤鎳之電位差 100~200mV,高硫鎳與光澤鎳 15~35mV,光澤鎳與鎳封20~40 mV,光澤鎳與位於光澤鎳與鉻層間的鎳層0~30 mV。如鋁合金輪轂/鍍銅/鎳/鉻[參考公會出版之電鍍技術基礎專書(上)鍍銅、鎳、鉻]。
ÖZKAYA, Berkem等人提出另一思維,減少鎳離子釋出之多層鎳製程 (WO2019/215287,2019年11月):底材→鍍半光澤鎳5~16μm→中間層鎳(鍍光澤鎳及霧面鎳)5~15μm;半光澤鎳與中間層鎳之電位差 80~250mV→鍍無孔鎳(不含非導電粒子,且粒子不含d50≧0.25μm;鍍層含磷≦1 atom%,最宜不含磷)0.5~3.5μm,中間層鎳與無孔鎳之電位差 10~150mV→鍍鉻0.05~1.0μm,孔隙度≦100孔/cm2,較宜≦10孔/cm2→表面電解鈍化處理(如U. S. Pat. Application 2019/0203360),或被覆二氧化矽類溶膠(sol-gel coating)及紫外線電著塗裝聚氨基甲酸酯0.001~1.0μm,較宜0.01~0.4μm。
用於汽車、白色家電等飾件,減少鎳離子釋出,降低鎳導致皮膚炎之風險,相對於傳統鍍裝飾鎳/鉻,在較宜之管控製程,能達到符合ECHA需求(依據EN 1811:2011+A1:2015測試;鎳離子釋出≦0.5μg/cm2/每周)。
僅供參考
J. H. CHEN 1226/2019